（1）可能原因：毛坯粗糙

原因分析：若工件的毛坯粗糙的話，由于電鍍屬“負(fù)填平”，經(jīng)過(guò)預(yù)鍍和中間層電鍍后，鍍層表面的粗糙度會(huì)更大，一方面由于氫在粗糙表面上的過(guò)電勢(shì)較小，容易析氫而影響鉻的沉積，另一方面粗糙表面的比表面積較大，導(dǎo)致鍍鉻時(shí)低電流密度處的電流密度太小而不能沉積鉻。

處理方法：增加研磨或拋光工序，降低毛坯的粗糙度，提高待鍍工件的表面質(zhì)量。

 (2)可能原因：底鍍層粗糙

原因分析： 鍍鎳以前，用氰化鍍銅或焦磷酸鹽鍍銅作為底鍍層的工件，表面鍍層色澤較暗，通過(guò)酸銅和鎳加厚鍍層之后，底鍍層的缺陷較為明顯，呈現(xiàn)粗糙的鍍層。該鍍層在鍍鉻時(shí)，一方面由于氫在粗糙表面上的過(guò)電勢(shì)較小，容易析氫而影響鉻的沉積；另一方面由于粗糙表面的比表面積較大，導(dǎo)致鍍鉻時(shí)低電流密度處的電流密度太小而不能沉積鉻。

處理方法：a.底鍍層粗糙的工件，增加拋光工序，提高底鍍層的光潔度；

b.加強(qiáng)技術(shù)管理，改善底鍍層的質(zhì)量，嚴(yán)格按《標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)指導(dǎo)書(shū)》操作。

（3）可能原因：光亮鍍鎳液的溫度太高

原因分析及處理方法：詳見(jiàn)硫酸鹽鍍光亮鎳故障分析：鎳鍍層出現(xiàn)針孔的原因分析及處理方法（11）。

（4）可能原因：光亮鍍鎳液的pH值太高

原因分析及處理方法：詳見(jiàn)硫酸鹽鍍光亮鎳故障分析：鎳鍍層出現(xiàn)針孔的原因分析及處理方法（8）。

（5）可能原因：鍍鎳液中有未除盡的保險(xiǎn)粉

原因分析：用保險(xiǎn)粉處理鍍鎳液中的六價(jià)鉻雜質(zhì)，若多余的保險(xiǎn)粉未被除盡，將會(huì)黏附在鎳鍍層表面，后工序的水洗又洗不干凈，在鍍鉻時(shí)，保險(xiǎn)粉把六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻，形成灰色鉻的沉積層。

處理方法：加0.3～0．5mL／L 30％的雙氧水，破壞多余的保險(xiǎn)粉(氧化成硫酸鹽)，然后再加熱趕走多余的雙氧水

（6）可能原因：鎳層在空氣或水中存放時(shí)間過(guò)長(zhǎng)

原因分析及處理方法：詳見(jiàn)裝飾性鍍鉻故障分析：鉻層發(fā)花或發(fā)霧的原因分析及處理方法（8）。

（7）可能原因：鍍鉻的陽(yáng)極導(dǎo)電不良

原因分析：鍍鉻與一般電鍍不同，采用不溶性陽(yáng)極，主要采用的是鉛或鉛合金(鉛一銻合金陽(yáng)極；鉛一錫合金陽(yáng)極；鉛一銀合金陽(yáng)極)，近年來(lái)也有鈦鍍鉑或鈮陽(yáng)極。

在鉻酸電解液中，金屬鉻鍍層是由六價(jià)鉻直接還原的，而金屬鉻陽(yáng)極溶解時(shí)，卻以不同價(jià)態(tài)的離子形式存在，主要是以三價(jià)鉻的離子形式進(jìn)入溶液，而陽(yáng)極的電流效率接近100％，這將導(dǎo)致三價(jià)鉻的含量迅速增加，而陰極電流效率只有10％～25％，使得三價(jià)鉻離子不斷升高，鉻鍍液不穩(wěn)定。另外，金屬鉻硬而脆，不易加工成型。在正常生產(chǎn)中，鉛或鉛合金陽(yáng)極的表面上生成一層暗褐色的二氧化鉛膜

Pb+2H₂0一4e^一→PbO₂+4H⁺

這層膜不影響導(dǎo)電，陽(yáng)極反應(yīng)仍可正常進(jìn)行，其電極反應(yīng)為

2Cr³⁺+7H₂0一6e^一→Cr₂0₇^2-+14H⁺

2H₂0一4e^一→0₂↑+4H⁺

由上述反應(yīng)可以看出，在陰極生成的三價(jià)鉻離子，在陽(yáng)極上又重新氧化成Cr₂0₇^2-，從而使電解液中Cr3+濃度維持在一定的水平，以保證鍍鉻生產(chǎn)的正常進(jìn)行。當(dāng)鍍液中的三價(jià)鉻離子含量過(guò)高時(shí)，可采用大面積陽(yáng)極和小面積陰極的方法進(jìn)行電解處理，以降低鍍液中三價(jià)鉻的含量。在生產(chǎn)中一般控制陽(yáng)極面積：陰極面積=(2:1)或(3:2)，即可保持三價(jià)鉻的穩(wěn)定(在工藝允許的范圍內(nèi))。陽(yáng)極的選擇第一考慮的是導(dǎo)電，由于鍍鉻溶液的分散能力和覆蓋能力較差，陰陽(yáng)極問(wèn)的幾何因素對(duì)電鍍質(zhì)量影響大，所以鍍鉻陰陽(yáng)極的形狀是鍍層厚度均勻與否的決定因素，在生產(chǎn)中特別是在鍍硬鉻上，大量采用象形陽(yáng)極來(lái)保證厚度均勻。就是在裝飾性電鍍生產(chǎn)中，也盡量采用合理的陽(yáng)極擺放，并采用輔助陽(yáng)極、陰極屏蔽的辦法來(lái)輔助，使陽(yáng)極到陰極的電力線盡可能分布均勻，來(lái)提高產(chǎn)品的質(zhì)量。

在不通電時(shí)，懸掛于鍍液中的鉛或鉛合金陽(yáng)極，由于遭受鉻酸浸蝕而在其表面形成導(dǎo)電性很差的黃色鉻酸鉛膜，使槽電壓升高，嚴(yán)重時(shí)造成陽(yáng)極不導(dǎo)電，因此，在不生產(chǎn)時(shí)，應(yīng)將陽(yáng)極從鍍槽中取出，浸在清水中，使用前用鋼絲刷洗刷去黃色的鉻酸鉛后，在通電的情況下重新掛入鍍槽，防止再生成鉻酸鉛黃色膜。若黃色膜堅(jiān)固難以刷去，可在堿液(5％NaOH)中浸幾天，待膜軟化后，再刷洗除去。如果陽(yáng)極表面為褐色膜，該膜是二氧化鉛，那么陽(yáng)極導(dǎo)電良好。

鉻酸及某些催化劑(如F一)對(duì)陽(yáng)極的浸蝕機(jī)理。在斷電時(shí)，對(duì)鉛陽(yáng)極及二氧化鉛膜均有浸蝕作用，形成大量的鉻酸鉛沉積在陽(yáng)極表面，使已形成的二氧化鉛與陽(yáng)極的基體剝離，而影響導(dǎo)電。為了減輕陽(yáng)極的腐蝕，在普通鍍鉻中使用含銻6％～8％的鉛一銻合金陽(yáng)極，它比純鉛陽(yáng)極的抗腐蝕性能好，并且由于銻的加入，陽(yáng)極不易變形。對(duì)于含氟的鍍鉻溶液常使用含錫60／4～12％的鉛一錫合金陽(yáng)極。若使用含銀1％～2％的鉛一銀合金陽(yáng)極，其抗腐蝕性較為顯著，尤其是對(duì)于含氟的鍍鉻陽(yáng)極，其抗腐蝕性更加顯著，并且由于銀的加入，陽(yáng)極不易變形。

據(jù)鍍鉻工藝和陰極幾何形狀，合理選擇和設(shè)計(jì)陽(yáng)極的材質(zhì)、幾何形狀和陽(yáng)極面積，并加強(qiáng)陽(yáng)極的維護(hù)保養(yǎng)。

（8）可能原因：掛具接觸不好

原因分析：由于鍍鉻電鍍液的分散能力差，陰極電流效率低，操作時(shí)的陰極電流密度較高，通常比底鍍層的陰極電流密度大5～10倍，因此，掛具的設(shè)計(jì)、材料的選用、上架操作和掛具的維護(hù)保養(yǎng)都有較嚴(yán)格的要求。

在設(shè)計(jì)掛具時(shí)，應(yīng)以鍍鉻的電流作為選材的依據(jù)，特別是掛具的掛鉤、主桿和支桿的截面積均應(yīng)能通過(guò)鍍鉻所需電流(紫銅基材可以通過(guò)3A/mm2的電流值，黃銅基材可以通過(guò)2.5A/mm2的電流值；鋼鐵底材可以通過(guò)2.0A/mm2的電流值)。掛具掛鉤上設(shè)置堅(jiān)固螺釘，使掛具在通電時(shí)與陰極銅排接觸牢固。零件裝掛時(shí)盡量采用彈性掛鉤(或稱繃鉤)，零件上掛后接觸緊，不晃動(dòng)。零件裝掛點(diǎn)不宜選在主要表面上，零件裝掛時(shí)，應(yīng)以零件主要表面面向陽(yáng)極，在零件人槽和出槽時(shí)，不產(chǎn)生氣袋和帶出槽液(積液)。另外，由于鍍鉻的陰極電流效率低，電鍍時(shí)有大量氣體析出，所設(shè)計(jì)的掛具和零件裝掛位置應(yīng)有利于氣體逸出，防止因氣體的滯留產(chǎn)生鍍層不連續(xù)、麻坑或條紋等異常。

在此需要特別強(qiáng)調(diào)的是，鍍鉻零件采用綁絲掛具時(shí)，需要注意的幾個(gè)問(wèn)題：

①合理選擇綁絲的材質(zhì)和規(guī)格。在材質(zhì)的選擇方面，一般選用細(xì)銅絲而不使用細(xì)鐵絲。選擇銅絲的規(guī)格，以直徑為聲l～2mm為宜，若直徑較大的話，在綁絲處的表面因被遮蓋而阻礙鉻的正常沉積，也不可以使用雙絲綁扎，那樣被遮蓋的面積更大，若工件的受鍍面積較大，必要時(shí)可采取不同部位多處分別綁絲，以解決因銅絲的截面過(guò)小、導(dǎo)線的電阻過(guò)大而出現(xiàn)的電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量問(wèn)題。

②綁絲的松緊要適當(dāng)。綁絲過(guò)緊，該處表面被遮蓋，從而影響鉻的沉積；綁絲過(guò)松，引起導(dǎo)電不良，鍍鉻時(shí)電流有可能會(huì)時(shí)斷時(shí)續(xù)，產(chǎn)生灰色鉻鍍層，在底鍍層還可能會(huì)產(chǎn)生綁絲痕跡，影響產(chǎn)品的外觀質(zhì)量。

③綁絲位置的選擇要適當(dāng)。綁絲的位置選擇在工件的非裝飾部位、直徑較小的部位，并且盲孔的氣體易于排放以及保證工件的電力線分布均勻，以防止產(chǎn)生綁絲痕跡象、盲孔部位產(chǎn)生氣袋和尖端、邊緣部位出現(xiàn)燒焦等品質(zhì)異常。

④綁絲用的銅絲需經(jīng)過(guò)處理。鍍鉻工件用的綁絲，事先須經(jīng)過(guò)酸洗，最好鍍上薄層鎳，否則綁絲處的鍍件表面難以沉上鉻層。

⑤同一串鍍件的外形相似，受鍍面積基本一致。不同外形的工件，沉積鉻的難易有別，所以在電流的設(shè)定、受鍍時(shí)間的控制等方面都有所區(qū)別，若工件的外形和受鍍面積相關(guān)較大的工件在同一串中施鍍的話，小的工件因電流過(guò)大而出現(xiàn)燒焦，大的工件卻因電流過(guò)小而不能全部沉上鉻層。

⑥每串綁絲的長(zhǎng)度要適當(dāng)。一串工件的長(zhǎng)度以與陽(yáng)極板在液面以下的長(zhǎng)度相等為宜，上部工件低于液面5cm，下部工件低于陽(yáng)極板的下邊緣5cm。若因工件的數(shù)量不足而不能綁至上述要求的長(zhǎng)度時(shí)，可在尾部留一段銅絲，引走部分電流，以避免末端工件被燒焦。

⑦鍍鉻工件不宜使用舊銅絲。因舊銅表面粗糙且彎曲不直，易產(chǎn)生綁絲印痕。

⑧控制工件之間的間距。工件與工件之間的間距以大于工件本身的橫截面尺寸的l.5倍為宜，若兩者之間的間距過(guò)小，那么截面的中心部位就難以沉上鉻層，若間距過(guò)大，則會(huì)影響產(chǎn)能。

⑨重量輕的小件采取防晃動(dòng)措施。工件是靠自身的重量來(lái)導(dǎo)電的，對(duì)于重量輕的小件，易受工件表面的氣體析出而隨波飄動(dòng)，從而影響銅絲與鍍件之間的正常電流通過(guò)，導(dǎo)致電流時(shí)斷時(shí)續(xù)，影響電鍍的質(zhì)量?？梢圆扇∠虏抗潭ɑ驂嫹请婂兗拇胧?，防止該類異常的發(fā)生。

掛具不需要導(dǎo)電的部分要全部絕緣，另外，掛具要經(jīng)常修理，特別是掛鉤上的鍍層應(yīng)退除，如掛鉤上的結(jié)瘤、支狀疏松的結(jié)晶會(huì)損耗大部分電流，導(dǎo)致掛鉤處實(shí)際分布的電流密度下降，甚至無(wú)鍍層沉積。

（9）可能原因：鉻酸含量太低或硫酸含量太高

原因分析：鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的唯一來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A/dm²時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g/L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，最主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr0₃：SO₄^2-=(80～100):1，最佳值為100:1。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

處理方法：分析調(diào)整鍍液成分，并控制Cr0₃：SO₄^2-=l00:1，若SO₄^2-的含量過(guò)高；加入計(jì)算量的BaCO₃，過(guò)濾鍍液。

（10）可能原因：三價(jià)鉻離子過(guò)多

原因分析：鍍鉻液中的三價(jià)鉻離子是鉻電沉積過(guò)程中Cr⁶⁺在陰極上還原產(chǎn)生的，與此同時(shí)，Cr³⁺在陽(yáng)極上又將重新被氧化成Cr⁶⁺，所以，Cr⁶⁺在鍍鉻液中的含量在一定條件下可達(dá)到平衡，平衡時(shí)的濃度取決于陰、陽(yáng)極面積之比，一般為SA:Sk=2:1。Cr³⁺是陰極膠體膜骨架，是陰極膠體膜的主要成分，只有當(dāng)鍍鉻液中含有一定的Cr³⁺時(shí)，鉻的沉積過(guò)程才能正常進(jìn)行。普通鍍鉻液中三價(jià)鉻的最佳含量取決于鍍液的組成、工藝條件及雜質(zhì)的含量，一般為2～4g/L(有資料報(bào)道：Cr³⁺含量大約為鉻酸含量的l％～2％)，不允許超過(guò)8g/L。當(dāng)Cr³⁺過(guò)低時(shí)，相當(dāng)于SO₄^2-含量偏高時(shí)出現(xiàn)的現(xiàn)象，使陰極膜不連續(xù)，鍍液的分散能力差，而且硬度低、光澤性差、電流效率也較低，而且只有在較高的電流密度下才產(chǎn)生鉻的沉積。當(dāng)Cr³⁺過(guò)高時(shí)，相當(dāng)于SO₄^2-含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導(dǎo)電性，使槽電壓升高，而且鍍鉻層的光亮度范圍縮小，工件的尖端或邊緣會(huì)出現(xiàn)燒焦，如果陰極電流密度較低時(shí)，會(huì)使工件深凹處鍍不上鉻，還會(huì)引起鍍層產(chǎn)生暗色、脆性及斑點(diǎn)等。嚴(yán)重時(shí)，只能產(chǎn)生粗糙、灰色鍍層。

新配制鍍液Cr³⁺的產(chǎn)生方法

①采用大面積陰極電解。電解的條件是陰極面積必須大于陽(yáng)極面積，鍍液中必須含有足夠量的硫酸。在電解時(shí)，陰極反應(yīng)式為

Cr₂0₇^2-+14H⁺+6e^一→2Cr³⁺+7H₂O

即陰極上發(fā)生Cr6+的還原，此反應(yīng)若無(wú)硫酸存在，反應(yīng)即刻停止。陽(yáng)極反應(yīng)式為

2Cr³⁺+7H₂0一6e^一→Cr₂0₇^2-+14H⁺

即陽(yáng)極上發(fā)生Cr6+的氧化。在陰極面積大于陽(yáng)極面積的情況下，六價(jià)鉻的還原趨勢(shì)大于三價(jià)鉻的氧化趨勢(shì)，總的結(jié)果使三價(jià)鉻含量升高。相反，若在陰極面積小于陽(yáng)極面積的情況下電解，則使三價(jià)鉻的含量逐漸降低。

②用還原劑將Cr⁶⁺還原產(chǎn)生三價(jià)鉻。還原六價(jià)鉻的還原劑有酒精、草酸和冰糖等，較為常用的是酒精(98％)，用量為0.5ml/L。在加入酒精時(shí)，由于反應(yīng)放熱，應(yīng)邊攪拌邊加入，否則反應(yīng)劇烈，使鉻液濺出。加入酒精后，稍作電解，即可投入使用。

③添加部分舊的鍍鉻液。在鍍鉻過(guò)程中，必須防止鍍鉻液的Cr³⁺升高，除了要有足夠大的陽(yáng)極面積外，還要防止銅、鐵工件落人和有機(jī)物的帶入，因?yàn)檫@些物質(zhì)都能促使六價(jià)鉻的還原，使三價(jià)鉻含量增加 降低三價(jià)鉻離子常用的方法有強(qiáng)氧化法、離子交換法、電滲析法和稀釋法，但最常用的是電解法。

處理方法：電解法在陽(yáng)極面積大于陰極面積10～30倍、鍍液溫度為50～60℃、陰極電流密度為1.8～2.0A/dm²的條件下進(jìn)行電解，處理時(shí)間視Cr³⁺的含量而定，一般在上述情況下．通電處理1h，約氧化三價(jià)鉻0.3g/L左右。

（11）可能原因：鐵雜質(zhì)過(guò)多

原因分析：鍍鉻液中Fe³⁺的含量在3g/L以下，對(duì)鍍鉻層無(wú)明顯的影響，但其含量大于5g/L時(shí)，鉻層光澤差，光亮鍍鉻層的陰極電流密度縮小，鍍液的電阻增大，工作電流不穩(wěn)定；當(dāng)其含量大于l0g/L時(shí)，鍍液顏色變深，呈棕褐色，鍍層上出現(xiàn)黃色斑點(diǎn)。

鐵雜質(zhì)的來(lái)源：鍍鐵工件落入槽內(nèi)、鐵件深凹處未鍍覆鍍層部位的化學(xué)溶解以及鉻陽(yáng)極的溶解和化學(xué)材料的帶入等。

處理方法一：稀釋法把鐵雜質(zhì)含量高的鍍鉻液抽出計(jì)算量的部分，作為塑料電鍍的粗化液或鍍鋅的鈍化液，然后再補(bǔ)充部分新鍍鉻液，使鐵雜質(zhì)的含量降低至允許范圍內(nèi)。

處理方法二：陽(yáng)離子交換法

a.將鍍鉻液稀釋至Cr0₃<130g/L；

b.用732#強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂(或其他樹(shù)脂)交換處理，除去Fe³⁺、Cr³⁺和其他陽(yáng)離子；

c.蒸發(fā)濃縮處理液，至Cr0₃含量至工藝范圍內(nèi)；

d.向處理液中加入0.5mL/L 98％的酒精，再電解一段時(shí)間，產(chǎn)生適量的三價(jià)鉻，即可電鍍

處理方法三：隔膜電解法 將含有金屬雜質(zhì)離子的鍍鉻液注入陰極室中進(jìn)行電解，Cr⁶⁺還原成Cr³⁺，同時(shí)鍍液的pH值升高，金屬雜質(zhì)形成氫氧化物沉淀，再經(jīng)過(guò)濾后，將有害的金屬雜質(zhì)除去。含Cr³⁺的鍍液通過(guò)電滲析進(jìn)入陽(yáng)極室外，再進(jìn)行電解，Cr³⁺在陽(yáng)極被氧化成Cr⁶⁺，與此同時(shí)，pH值降低，這樣可使鍍鉻液再生。值得注意的是，此法隔膜的質(zhì)量是關(guān)鍵，為了延長(zhǎng)隔膜的使用壽命，鍍鉻液需經(jīng)稀釋至100～150g。

處理方法四：CS型鍍鉻凈化劑法 此法可除去異金屬雜質(zhì)，經(jīng)濟(jì)、方便、迅速。

（12）可能原因：銅、鋅、鉛、鎳雜質(zhì)過(guò)多

原因分析：鍍鉻液銅、鋅、鉛雜質(zhì)含量過(guò)高時(shí)，會(huì)明顯降低鍍鉻層的覆蓋能力，銅雜質(zhì)最高允許含量5g/L，鋅雜質(zhì)最高允許含量3g/L。

銅、鋅、鉛雜質(zhì)的來(lái)源：工件落入鍍鉻槽內(nèi)、工件深凹處未鍍覆鍍層部位的化學(xué)溶解以及鉻陽(yáng)極的溶解和化學(xué)材料的帶入等。

現(xiàn)象判定：若鍍鉻液的色澤變深、電壓比剛建浴時(shí)要大，就說(shuō)明鍍鉻液中可能受到異金屬雜質(zhì)的污染 。

處理方法一：CS型鍍鉻凈化劑法 此法可除去異金屬雜質(zhì)，經(jīng)濟(jì)、方便、迅速。

處理方法二：采用低電流密度電解處理(0.2～0.5A/dm²)。

（13）可能原因：硝酸根雜質(zhì)過(guò)多

原因分析：在鍍鉻液中，硝酸根離子最有害，當(dāng)鍍鉻液中NO₃^->0.1g/L時(shí)，鉻層灰暗，失去光澤；鍍液的深鍍能力和陰極電流效率降低；工作電流密度范圍縮?。粚?duì)鉛陽(yáng)極及其他鉛材設(shè)施腐蝕性增大。當(dāng)NO₃^->1g/L時(shí)，在正常的電流密度下，陰極上難以得到鉻層，即使升高電流密度，也只能得到灰黑色的鍍層。

處理方法一：電解法(NOa的雜質(zhì)含量低)以每升電鍍液1A電解處理。

處理方法二：電解法(NOa的雜質(zhì)含量較多)。

a.加入計(jì)算量的BaC0₃，除去鍍液中SO₄^2-，使鉻不能在陰極上沉積，有利于NO₃^-在陰極上還原；

b.將鍍鉻液加熱至65～80℃；

c.設(shè)定陰極電流密度在10～20A/dm²之間，進(jìn)行大電流電解，使NO₃^-在陰極上還原為NH₃除去，直至鍍鉻液正常，陰極反應(yīng)為

NO₃^-+9H⁺+9e^一→NH₃↑+3H₂0

d.分析調(diào)整鍍液成分后，試鍍。