（1）可能原因：陰極電流密度過(guò)大

處理方法：a.準(zhǔn)確計(jì)算工件受鍍面積，合理設(shè)定電流值(Dk=40～60A/dm²)；

b.適當(dāng)提高鍍液溫度，充分考慮溫度與電流密度的匹配。

（2）可能原因：硫酸含量過(guò)低

原因分析：鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的唯一來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A/dm²時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g/L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，最主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr0₃:SO₄^2-=(80～100):1，最佳值為100:1。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

處理方法：分析調(diào)整鍍液成分，并控制Cr0₃:SO₄^2-=100:1

（3）可能原因：陰陽(yáng)極間距太近

原因分析：提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來(lái)提高鍍層的均勻性，下面談?wù)劯淖儙缀我蛩氐拇胧?

 ①采用象形陽(yáng)極。象形陽(yáng)極與陰極的距離相等，在陰極上電流分布均勻，但該陽(yáng)極制作成本高，加工難度大，制作時(shí)要充分考慮到下列因素：陽(yáng)極形狀、合金成分、鍍液流通和交換以及上、下部工件的屏蔽問(wèn)題。

 ②采用屏蔽陰極。對(duì)于不能采用象形陽(yáng)極的工件，可用非金屬材料(如塑料)屏蔽陰極的高電流密度區(qū)，使電流向低電流密度區(qū)分布，從而保證整個(gè)工件表面電流分布趨于一致。屏蔽陰極距陰極的距離越小，其屏蔽效果越好。

 ③增大陰陽(yáng)極距離，合理布置陽(yáng)極。陰陽(yáng)極距離加大，使得零件的凸凹處距陽(yáng)極的相對(duì)距離差縮小，可以使電流分布因零件形狀差異的影響變小，當(dāng)然陰陽(yáng)極距離的加大，將導(dǎo)致槽壓升高。合理地布置陽(yáng)極可以將邊角等高電流密度區(qū)的電流減小，使中、低電流密度區(qū)的電流加大，整個(gè)工件的電流分布更趨向均勻。一般陰極與陽(yáng)極間距在200～300mm之間。

 ④采用旋轉(zhuǎn)陰極。當(dāng)工件圍繞陰極中軸作一個(gè)方向的旋轉(zhuǎn)時(shí)，工件各面與陽(yáng)極的距離在不斷變化，由于這種變化是周期性的，使工件上電流分布的大小機(jī)會(huì)均等。但采用旋轉(zhuǎn)陰極，必須保證陰極導(dǎo)電軸與掛具的導(dǎo)電良好。

 ⑤采用輔助陽(yáng)極。對(duì)于形狀復(fù)雜的工件，采用輔助陽(yáng)極來(lái)縮短工件低電流密度區(qū)與陽(yáng)極之間的距離，從而使低電流密度區(qū)的電流增大。

 ⑥采用沖擊電流施鍍。對(duì)于形狀復(fù)雜或表面多孔的工件鍍鉻，采用沖擊電流使工件低電流密度區(qū)沉積上一層鉻，氫在鉻層上的超電壓上升，轉(zhuǎn)入正常電鍍時(shí)，該區(qū)域氫的析出量減少，使鉻析出增加，來(lái)改善鍍層的均勻性。沖擊電流是正常電鍍電流的l．5～2倍，時(shí)間為10～20s。

處理方法：控制陰極與陽(yáng)極間距離大于200mm，使工件的相對(duì)幾何尺寸縮小，保證陰極電力線分布均勻。

（4）可能原因：工件凸凹處未使用陰極保護(hù)

原因分析：同（3）的原因分析

處理方法：采用陰極保護(hù)，合理布置陽(yáng)極。