(1)可能原因：掛具鉤的接觸點(diǎn)太粗

處理方法：合理設(shè)計(jì)和規(guī)范使用掛具，加強(qiáng)掛具的維護(hù)保養(yǎng)

（2）可能原因：鉻陽(yáng)極面積太小

原因分析：在電鍍過(guò)程中，鉛合金表面迅速生成一層鉻酸鉛黃色膜，陽(yáng)極面極小，成膜速度快，膜層厚，嚴(yán)重時(shí)造成陽(yáng)極不導(dǎo)電，終止鍍鉻過(guò)程。

處理方法：a.合理設(shè)置陽(yáng)極面積，保證陽(yáng)極面積和陰極面積之比為（2:1）或（3:2）；

b.加強(qiáng)鉻陽(yáng)極的維護(hù)保養(yǎng)，保證導(dǎo)電良好。

（3）可能原因：鍍鉻液中鉻酸含量太低或硫酸含量太高

可能原因：鉻酸含量太低或硫酸含量太高

原因分析：鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的唯一來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，Dk=10A/dm²時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變化，甚至高達(dá)800g/L，均可獲得光亮鍍鉻層。一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性作用，鍍液溫度升高，電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但采用高濃度鉻酸電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，不僅造成材料的浪費(fèi)，更主要的是會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，最主要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般控制Cr0₃：SO₄^2-=(80～100):1，最佳值為100:1。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻、發(fā)花，特別是工件凹處還可能露出基體金屬。當(dāng)SO₄^2-含量過(guò)低時(shí)，陰極表面只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大，所以，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。

處理方法：分析調(diào)整鍍液成分，并控制Cr0₃:SO₄^2-=l00:1，若SO₄^2-的含量過(guò)高；加入計(jì)算量的BaCO₃，過(guò)濾鍍液。

（4）可能原因：鍍鉻液中三價(jià)鉻離子含量過(guò)多

原因分析：鍍鉻液中的三價(jià)鉻離子是鉻電沉積過(guò)程中Cr⁶⁺在陰極上還原產(chǎn)生的，與此同時(shí)，Cr³⁺在陽(yáng)極上又將重新被氧化成Cr⁶⁺，所以，Cr⁶⁺在鍍鉻液中的含量在一定條件下可達(dá)到平衡，平衡時(shí)的濃度取決于陰、陽(yáng)極面積之比，一般為SA:Sk=2:1。Cr³⁺是陰極膠體膜骨架，是陰極膠體膜的主要成分，只有當(dāng)鍍鉻液中含有一定的Cr³⁺時(shí)，鉻的沉積過(guò)程才能正常進(jìn)行。普通鍍鉻液中三價(jià)鉻的最佳含量取決于鍍液的組成、工藝條件及雜質(zhì)的含量，一般為2～4g/L(有資料報(bào)道：Cr³⁺含量大約為鉻酸含量的l％～2％)，不允許超過(guò)8g/L。當(dāng)Cr³⁺過(guò)低時(shí)，相當(dāng)于SO₄^2-含量偏高時(shí)出現(xiàn)的現(xiàn)象，使陰極膜不連續(xù)，鍍液的分散能力差，而且硬度低、光澤性差、電流效率也較低，而且只有在較高的電流密度下才產(chǎn)生鉻的沉積。當(dāng)Cr³⁺過(guò)高時(shí)，相當(dāng)于SO₄^2-含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導(dǎo)電性，使槽電壓升高，而且鍍鉻層的光亮度范圍縮小，工件的尖端或邊緣會(huì)出現(xiàn)燒焦，如果陰極電流密度較低時(shí)，會(huì)使工件深凹處鍍不上鉻，還會(huì)引起鍍層產(chǎn)生暗色、脆性及斑點(diǎn)等。嚴(yán)重時(shí)，只能產(chǎn)生粗糙、灰色鍍層。

新配制鍍液Cr³⁺的產(chǎn)生方法

①采用大面積陰極電解。電解的條件是陰極面積必須大于陽(yáng)極面積，鍍液中必須含有足夠量的硫酸。在電解時(shí)，陰極反應(yīng)式為

Cr₂0₇^2-+14H⁺+6e^一→2Cr³⁺+7H₂O

即陰極上發(fā)生Cr6+的還原，此反應(yīng)若無(wú)硫酸存在，反應(yīng)即刻停止。陽(yáng)極反應(yīng)式為

2Cr³⁺+7H₂0一6e^一→Cr₂0₇^2-+14H⁺

即陽(yáng)極上發(fā)生Cr6+的氧化。在陰極面積大于陽(yáng)極面積的情況下，六價(jià)鉻的還原趨勢(shì)大于三價(jià)鉻的氧化趨勢(shì)，總的結(jié)果使三價(jià)鉻含量升高。相反，若在陰極面積小于陽(yáng)極面積的情況下電解，則使三價(jià)鉻的含量逐漸降低。

②用還原劑將Cr⁶⁺還原產(chǎn)生三價(jià)鉻。還原六價(jià)鉻的還原劑有酒精、草酸和冰糖等，較為常用的是酒精(98％)，用量為0.5ml/L。在加入酒精時(shí)，由于反應(yīng)放熱，應(yīng)邊攪拌邊加入，否則反應(yīng)劇烈，使鉻液濺出。加入酒精后，稍作電解，即可投入使用。

③添加部分舊的鍍鉻液。在鍍鉻過(guò)程中，必須防止鍍鉻液的Cr³⁺升高，除了要有足夠大的陽(yáng)極面積外，還要防止銅、鐵工件落人和有機(jī)物的帶入，因?yàn)檫@些物質(zhì)都能促使六價(jià)鉻的還原，使三價(jià)鉻含量增加 降低三價(jià)鉻離子常用的方法有強(qiáng)氧化法、離子交換法、電滲析法和稀釋法，但最常用的是電解法。

處理方法：電解法在陽(yáng)極面積大于陰極面積10～30倍、鍍液溫度為50～60℃、陰極電流密度為1.8～2.0A/dm²的條件下進(jìn)行電解，處理時(shí)間視Cr³⁺的含量而定，一般在上述情況下．通電處理1h，約氧化三價(jià)鉻0.3g/L左右。

（5）可能原因：鍍鉻液中異金屬雜質(zhì)過(guò)多

原因分析及處理方法：詳見(jiàn)裝飾性鍍鉻故障分析：深鍍能力差，工件的深凹處鍍不上鉻層的原因分析及處理方法（11）、（12）。

（6）可能原因：鍍鉻液中硝酸根雜質(zhì)過(guò)多

原因分析：在鍍鉻液中，硝酸根離子最有害，當(dāng)鍍鉻液中NO₃^->0.1g/L時(shí)，鉻層灰暗，失去光澤；鍍液的深鍍能力和陰極電流效率降低；工作電流密度范圍縮??；對(duì)鉛陽(yáng)極及其他鉛材設(shè)施腐蝕性增大。當(dāng)NO₃^->1g/L時(shí)，在正常的電流密度下，陰極上難以得到鉻層，即使升高電流密度，也只能得到灰黑色的鍍層。

處理方法一：電解法(NOa的雜質(zhì)含量低)以每升電鍍液1A電解處理。

處理方法二：電解法(NOa的雜質(zhì)含量較多)。

a.加入計(jì)算量的BaC0₃，除去鍍液中SO₄^2-，使鉻不能在陰極上沉積，有利于NO₃^-在陰極上還原；

b.將鍍鉻液加熱至65～80℃；

c.設(shè)定陰極電流密度在10～20A/dm²之間，進(jìn)行大電流電解，使NO₃^-在陰極上還原為NH₃除去，直至鍍鉻液正常，陰極反應(yīng)為

NO₃^-+9H⁺+9e^一→NH₃↑+3H₂0

d.分析調(diào)整鍍液成分后，試鍍。